激光刻膜机

设备性能
本机采用半导体泵浦激光器，直线电机驱动；光路可两路或四路激光同步输出。

应用领域
薄膜太阳电池非晶、微晶、碲化镉的刻膜或划线。

主要技术参数
激光波长 1064nm或532nm
刻膜线宽 40μm -80μm
刻膜速度 1000mm/s-1500mm/s
刻膜精度 ±10μm
工作台幅面 1200×600mm 或1100×1400mm
产品名称：激光刻膜机 激光刻膜,薄膜太阳能电池,P1\P2\P3
产品手机链接：http://m.vooec.com/trade_3896561.html
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