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半导体行业用膜分离制氮机

由于膜分离制氮机不需要启动切换阀和电磁阀,因而比变压吸附制氮机的可靠性更高。膜分离制氮设备通常适合氮气纯度小于等于98%的应用场合

技术指标
氮气流量:5-1000Nm3/h
氮气纯度:95-99.9%
氮气压力:0-1.2MPa

产品名称:半导体行业用膜分离制氮机
产品手机链接:http://m.vooec.com/product_14015517.html
产品网站链接:http://www.vooec.com/cpshow_14015517/

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