1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；
2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。
3.该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD）,系统可以实现连续滑动温区，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。



型号 BTF-1200C-R-PECVD
显示模式 7"液晶触屏显示
最高温度 1100℃
升温速率 10℃/S
控温精度 ±1℃
加热元件 电阻丝
热电偶 K型
控温方式 7"液晶触屏与工控仪表双重控温，模糊PID控制和自整定调节，人工智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能。
炉管尺寸 Φ60*420*2+Φ100*360mm
炉管转速 3~13r/min
倾斜角度 0~35°
加热功率 3KW
射频功率输出范围 0~500W
供气系统 标配三路质量流量计（50/100/200sccm）
供电电源 220V50Hz
通讯接口 USB
外形尺寸 1600mm*650mm*1400mm
设备净重 约220KG
产品名称：等离子体增强回转炉BTF-1200C-R-PECVD
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_195241256.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_195241256/