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晶圆抛光垫,半导体抛光垫

抛光布广泛应用于硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、蓝宝石、水晶等粗抛以及精密抛光。日本的信越半导体(硅片)、京瓷(蓝宝石)、并木(蓝宝石)、俄罗斯MonoCrystal(蓝宝石)、等多家公司都在使用该抛光布。
一、蓝宝石粗抛布(N0261)
物性说明:
品名 (LVSHAN): N07126 H
用途 (FOR USES) : CMP *粗研磨用
物理性质各项参数 ( PHYSICAL PROPERTIES )
项目 重量 厚度 密度 压缩率 弹性率 硬度 绒长 开口径
单位 g/m2 mm g/m3 % % Asker C μm μm
测定值 645 1.4 0.54 0.97 63 96 -- --
TEST
METHOD JIS-
K6328 JIS-
K6328 JIS-
K6328 JIS-
L1096 JIS-
L1096 JIS-
K6301 OWN
METHOD
 
(物理性质数据只是测定数值,不作为规格数值。)
(The above is not standard, but measured figures.)
产品特点:
v   能提高研磨效率,研磨面的表面状态如均匀的毛玻璃状态;
v   采用高硬度的不织布,使用寿命长;
v   可以用来金属的研磨,并可以使用研磨砂,有相应实绩;
v   可以根据用户要求开槽。
同比市面上较多的罗门哈斯SUBA系列抛光布具有以下优点:
v   抛光寿命更长
v   价格更加低廉
v   性能与SUBA系列持平

产品名称:晶圆抛光垫,半导体抛光垫
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产品网站链接:http://www.vooec.com/cpshow_196534245/

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