控制模式: 手动控制模式 自动控制模式；
※ 设备形式: 室内放置型；
※ 清洗能力：4 –6 inch，2 cassette/ Batch，25 Pcs/cassette；
※ 尺寸(参考，详见图纸，含地脚)：3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)；
※ 机台总体结构：机械运行机构装置与机台前方；机台前方为清洗工作区域，机台后上方为 电器和气路布置区域，后下方为液路布置区域；
※ 工艺说明:机械传动，自动方式实现槽体间传送工件；
※ 腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性；
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式；
※ 设备形式: 室内放置型；
※ 清洗能力：4 –6 inch，2 cassette/ Batch，25 Pcs/cassette；
※ 尺寸(参考，详见图纸，含地脚)：3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)；
※ 机台总体结构：机械运行机构装置与机台前方；机台前方为清洗工作区域，机台后上方为 电器和气路布置区域，后下方为液路布置区域；
※ 工艺说明:机械传动，自动方式实现槽体间传送工件；
※ 腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性；


产品名称：第三代半导体湿法清洗机碳化硅清洗机
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_219036063.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_219036063/