用途：

主要用于各大高校、硅材料实验室、及微电子专业对半导体6寸及以下硅片的高温扩散、氧化（湿氧）、退火、烧结合金工艺的教学和实验工作。

1.1、工作温度：400-1300℃

1.2、恒温区长度及精度： 300mm /±0.5℃（可选）

1.3、炉管数：一、二、三、四管（可选）

1.4、适应硅片尺寸： 6寸及向下兼容

1.5、送取片方式：自动或手动（可选）


青岛晨立电子有限公司成立于2009年，是半导体设备及零部件、电子设备及电子元器件生产、研发、销售厂家。为客户提供先进材料热处理、高精度电加热设备及系统集成等全套解决方案。

主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高精度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。


产品名称：高校、硅材料实验室、微电子专业高温氧化炉
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_224481966.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_224481966/