该系统为间接PECVD系统，它包括真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、匹配器,物料喷射系统。电源范围宽，0-500W可调。 温度范围宽：100-1200度可调，溅射区域宽：0-800mm可调。适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易。

主要特点:
薄膜沉积速率高：采用了甚高频技术，大大的提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达10Å/S；
大面积均匀性高：采用了先进的多点射频馈入技术，特殊气路分布和加热技术等，使得薄膜均匀性指标达到8%；
一致性高：用半导体行业的先进设计理念，使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%；
工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定；
选配物料喷射系统，可将原料直接喷射到反应区。


真空管式炉 炉管尺寸： 外径Φ50、60、80、100×1000mm
极限温度： 1200 ℃
温度控制器： PID自动控制 晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器
最快升降温速率： 20 ℃
加热区： 400mm
恒温区： 200mm
温度精度： ±1 ℃
电源： 单相220V,交流50Hz



多通道流量计控制系统 标准量程： 100，200 ，500，1000SCCM； （以氮气标定，除以上标准外量程可选）
准确度： ±1.5%
工作压差范围： 0.1～0.5 MPa
最大压力： 3MPa
接头类型： Φ6双卡套不锈钢接头


高真空系统

泵体积流量N2： 33 L/S
压缩比： ≥1011mbar
实验真空值： 10-5mbar
功率消耗： 140W
启动时间： 2min
电源要求： 185-265VAC
射频电源 信号频率： 13.56MHz±0.005%W
功率输出范围： 0-500W
最大反射功率： 100W

产品名称：PECVD系统
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_4425527.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_4425527/