高温CVD生长系统集高温炉，控制系统，真空系统和供气系统为一体。
高温炉采用BTF-1200C Φ80mm炉体，安装有双向导柱滑轨，整体加工外形约1500×1250×600mm，当生长结束后，左右拉动炉体能够保证有足够的空间使石英管的加热恒温区移出炉体，满足快速降温的要求。
炉管使用石英管，石英管具有很高的耐急冷急热性，能满足突然降温而不破裂的要求。
真空系统采用GZK-101系统，抽气端还加针阀控制生长时的抽速，另留一针阀用于排气。
供气系统采用多路气体混合配比器，质量控制器由N2标定，每一路都有对应的针阀相配。
CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验。
产品特点：
可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。真空泵、阀采用进口设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。在预热方式上设有自动升温预热程序。在程序下完全不需要操作人员监看、调整工作电流，可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。
技术参数：
设计温度：≤1150℃
控温精度：±2℃
真 空 度：6pa（机械泵）
温 区：单温区/多温区
可移动范围：640mm
管径长度: Ф80*1400
输入功率: 2.5KW
电源电压: AC220V
加热原件：电阻丝
流量计量程：16-160ml/min

产品名称：高温CVD生长系统
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_4425644.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_4425644/