主要特点：
BTF1700C - 80HV是高温管式炉和高真空组合系统。炉体采用硅钼棒加热最高温度可至1700℃，高真空系统采用进口分子泵机组，一键操作，简洁方便，无噪音。系统通过标准配件连接，全部采用不锈钢材料，电抛光处理。其广泛应用于荧光粉材料，金属材料，磁性材料，半导体材料，陶瓷材料，电化学，薄膜材料，CVD,石墨烯，硅纳米管，纳米线，等研究领域。
技术参数：



真空管式炉 炉管尺寸： 外径Φ60×1000mm、Φ80×1000mm
（可根据客户要求选配各种管式炉）
极限温度： 1700℃
工作温度： 800-1600℃
温度控制器： PID自动控制 晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器
最快升降温速率： 1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min，1600℃以后≤2℃/min
加热区： 457mm
恒温区： 150mm
温度精度： ±1 ℃
电源： 单相220V,交流50Hz

多通道流量计控制系统 标准量程： 100，200 ，500，1000SCCM； （以氮气标定，除以上标准外量程可选）
准确度： ±1.5%
工作压差范围： 0.1～0.5 MPa
最大压力： 3MPa
接头类型： Φ6双卡套不锈钢接头

高真空系统 泵体积流量N2: 33 L/S
压缩比： ≥1011mbar
实验真空值： 10-5mbar
功率消耗： 140W
启动时间： 2min
电源要求： 185-265VAC

产品名称：高真空CVD系统
产品手机链接：http://m.vooec.com/product_4425683.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/cpshow_4425683/