扬州半导体芯片清洗超纯水设备

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EDI超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(最新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)以上工艺各有各的优势，你可以根据你自身的情况选购适合你的工艺。随着科学的发展，很多新的工艺已经替代了旧的工艺，目前用反渗透法制取高纯水已经普及，也是最为现今的工艺。
EDI超纯水设备特点
1. 透水量大，脱盐率高。正常情况下≥98%
2. 对有机物，胶体、微粒、细菌、病毒、热源等有很高的截留去除作用。
3. 能耗小，水利用率高，运行费用低于其它脱盐设备。
4. 分离过程没有相变，具有可靠稳定性。
5. 设备体积小，操作简单、容易维护，适应性强，使用寿命长
产品名称：扬州半导体芯片清洗超纯水设备
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