在原子层沉积（ALD）工艺中，选择合适的前驱体对工艺控制、薄膜性能等方面至关重要。同时根据前驱体特性，如性状、挥发性等，配以合适的源瓶则会对工艺有协同效应。我司除在前驱体研制方面充分发挥技术优势外，还在ALD源瓶的设计和加工方面积累的丰富经验。我们竭诚为广大客户提供各类专一的源瓶。找ALD源瓶，优选“维意真空”......
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产品名称：ALD真空设备
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