​主要技术指标：

★可处理硅片尺寸：2—8英寸
★外型形式：卧式1—4管结构
★工作温度：200℃—1300℃
★恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
★单点温度稳定性、重复性：≤±0.5℃／24h
★温度斜变：可控升温速率20℃／min，
★可控降温速率：5℃／min
★送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
★气路系统：1—5路工艺气体／管
★气体控制：全自动MFC、手动浮子流量计
★控制方式：工控机、触摸屏

青岛晨立电子有限公司主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高 精 度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专 用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。


产品名称：碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉 青岛晨立电子有限公司
产品手机链接：http://m.vooec.com/trade_507802898.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/sjshow_507802898/