用途：

主要用于各大高校、硅材料实验室、及微电子专业对半导体6寸及以下硅片的高温扩散、氧化（湿氧）、退火、烧结合金工艺的教学和实验工作。

1.1、工作温度：400-1300℃

1.2、恒温区长度及精度： 300mm /±0.5℃（可选）

1.3、炉管数：一、二、三、四管（可选）

1.4、适应硅片尺寸： 6寸及向下兼容

1.5、送取片方式：自动或手动（可选）
青岛晨立电子有限公司成立于2009年，是半导体设备及零部件、电子设备及电子元器件生产、研发、销售厂家。为客户提供先进材料热处理、高精度电加热设备及系统集成等全套解决方案。
公司主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高 精度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专 用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。
产品名称：高校、硅材料实验室、微电子专业高温氧化炉
产品手机链接：http://m.vooec.com/trade_507808681.html
产品网站链接：http://www.vooec.com/sjshow_507808681/